[发明专利]相位差膜及制造方法在审
| 申请号： | 201880034671.6 | 申请日： | 2018-05-18 |
| 公开（公告）号： | CN110709737A | 公开（公告）日： | 2020-01-17 |
| 发明（设计）人： | 浅田毅 | 申请（专利权）人： | 日本瑞翁株式会社 |
| 主分类号： | G02B5/30 | 分类号： | G02B5/30;B29C48/305;B29C55/02;C08J5/18;C08L53/02 |
| 代理公司： | 11413 北京柏杉松知识产权代理事务所(普通合伙) | 代理人： | 杨卫萍;刘继富 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种相位差膜及其制造方法，该相位差膜由包含共聚物P的树脂C形成，共聚物P包含聚合单元A和聚合单元B，该相位差膜包含显现结构性双折射的相分离结构，上述相分离结构包含以上述聚合单元A为主成分的相和以上述聚合单元B为主成分的相，该相位差膜具有大于0且小于1的NZ系数。优选上述相分离结构具有层状、柱状、椭球状中任一种形态，上述相分离结构中的相间距离为200nm以下。 | ||
| 搜索关键词： | 相分离结构 聚合单元 相位差膜 共聚物P 相间距离 结构性 双折射 椭球状 树脂 柱状 优选 制造 | ||
【主权项】：
1.一种相位差膜，由包含共聚物P的树脂C形成，共聚物P包含聚合单元A和聚合单元B，/n所述相位差膜包含显现结构性双折射的相分离结构，所述相分离结构包含以所述聚合单元A为主成分的相和以所述聚合单元B为主成分的相，/n所述相位差膜具有大于0且小于1的NZ系数。/n
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