[发明专利]相位差膜及制造方法在审
| 申请号： | 201880033974.6 | 申请日： | 2018-05-18 |
| 公开（公告）号： | CN110651207A | 公开（公告）日： | 2020-01-03 |
| 发明（设计）人： | 浅田毅 | 申请（专利权）人： | 日本瑞翁株式会社 |
| 主分类号： | G02B5/30 | 分类号： | G02B5/30;B29C48/30;C08J5/18;C08L53/02;B29C48/305;B29C55/02 |
| 代理公司： | 11413 北京柏杉松知识产权代理事务所(普通合伙) | 代理人： | 邵秋雨;刘继富 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种相位差膜以及其制造方法，上述相位差膜实质上仅由包含聚合单元A和聚合单元B的1种共聚物P形成，具有显现结构性双折射的相分离结构，具有大于0且小于1的NZ系数。优选上述相分离结构包含将上述聚合单元A作为主成分的相和将上述聚合单元B作为主成分的相，上述相分离结构具有片状、柱状、球状中的任一形态，上述相分离结构中的相间距离为200nm以下。 | ||
| 搜索关键词： | 相分离结构 聚合单元 相位差膜 相间距离 共聚物P 结构性 双折射 柱状 优选 制造 | ||
【主权项】：
1.一种相位差膜，实质上仅由包含聚合单元A和聚合单元B的1种共聚物P形成，/n具有显现结构性双折射的相分离结构，/n具有大于0且小于1的NZ系数。/n
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