[发明专利]处理方法及处理系统在审
| 申请号： | 201880030451.6 | 申请日： | 2018-03-27 |
| 公开（公告）号： | CN110621426A | 公开（公告）日： | 2019-12-27 |
| 发明（设计）人： | 柴崎祐一 | 申请（专利权）人： | 株式会社尼康 |
| 主分类号： | B22F3/105 | 分类号： | B22F3/105;B22F3/16;B23K26/146;B23K26/21;B23K26/34;B33Y10/00;B33Y30/00 |
| 代理公司： | 11019 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 寿宁;张琳 |
| 地址： | 日本东京港*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明是处理方法及处理系统。所述处理系统具备：液体供给装置(20)，其可供给液体；液体处理装置，其以在既定面上的包含目标部位(TA)的一部分区域局部地产生非液浸状态的方式，对自液体供给装置供给的液体(CW)进行处理；光束照射部(520)，其朝向目标部位射出光束(LB | ||
| 搜索关键词： | 目标部位 液体供给装置 处理系统 非液 液体处理装置 光束照射部 供给液体 射出光束 移动装置 照射光束 移动 | ||
【主权项】：
1.一种处理方法，是借由光束的照射对既定面上的目标部位实施处理，其特征在于其包括：/n供给液体；/n将前述既定面上的包含前述目标部位的一部分区域设为非液浸状态；及/n在已将包含前述目标部位的一部分区域设为非液浸状态的状态下，对前述目标部位照射光束以对前述目标部位实施前述处理。/n
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