[发明专利]含硅前体在多孔支架材料上的分解在审

专利信息
申请号: 201880029192.5 申请日: 2018-03-09
公开(公告)号: CN110582823A 公开(公告)日: 2019-12-17
发明(设计)人: 亨利·R·克斯坦蒂诺;亚伦·M·费沃尔;艾弗里·J·萨克斯豪格;克里斯托弗·蒂蒙斯 申请(专利权)人: 14集团技术公司
主分类号: H01G11/24 分类号: H01G11/24;C01B32/05;C01B32/30
代理公司: 11204 北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司 代理人: 王达佐;洪欣
地址: 美国华*** 国省代码: 美国;US
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 提供了硅和各种多孔支架材料的复合物及其制造方法,所述多孔支架材料例如包含微孔、中孔和/或大孔的碳材料。组合物在各种应用中具有实用性,所述应用包括电能存储电极和包含电能存储电极的装置。
搜索关键词: 多孔支架材料 电能存储 电极 复合物 碳材料 大孔 微孔 应用 制造
【主权项】:
1.用于产生包含多孔碳支架和硅的复合材料的方法,包括以下步骤:/na.混合聚合物前体材料并且在足以使所述前体聚合的温度下存储所得的混合物一段时间;/nb.使所得的聚合物材料碳化,以产生多孔碳材料;/nc.使所述多孔碳材料在含硅前体和烃材料的存在下经受高温,所述烃材料与所述含硅前体相比在更高的温度下分解;/nd.升高所述温度以使所述含硅前体分解,产生硅浸渍的碳材料;以及/ne.进一步升高所述温度以使所述烃材料分解,产生碳涂覆的、硅浸渍的碳材料。/n
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于14集团技术公司,未经14集团技术公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201880029192.5/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top