[发明专利]生成自由电荷、臭氧以及光的高能效等离子体过程有效

专利信息
申请号: 201880028100.1 申请日: 2018-04-26
公开(公告)号: CN110731128B 公开(公告)日: 2021-10-08
发明(设计)人: 张成植 申请(专利权)人: 张成植
主分类号: H05H1/24 分类号: H05H1/24
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人: 黄嵩泉;张鑫
地址: 美国加利*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明的实施例描述了通过使用经涂敷的双介质阻挡放电系统(CDDBD)的电流源、光源、以及臭氧生成器的形成。一种用于生成电荷的系统可包括CDDBD设备,该CDDBD设备具有由填充有气体介质的间隙分隔的至少两个电极,其中,该至少两个电极中的每个电极覆盖有防止至少两个电极中的电荷穿过气体介质的绝缘体,并且其中,至少两个绝缘体中的每个绝缘体的表面涂敷有具有比绝缘体的材料更高的二次电子发射系数的材料。此外,用于生成电荷的系统还可包括与CDDBD设备耦合的电源,该电源向CDDBD设备供给能量以形成初始电场。
搜索关键词: 生成 自由 电荷 臭氧 以及 能效 等离子体 过程
【主权项】:
1.一种用于等离子体的生成和使用的系统,所述系统包括:/n经涂敷的双介质阻挡放电(CDDBD)设备,从宇宙射线生成通过所述CDDBD设备的电荷,/n电源,与所述CDDBD设备耦合,所述电源向所述CDDBD设备供给能量以形成初始电场,并且/n其中,所述CDDBD设备包括由填充有气体介质的间隙分隔的至少两个电极,其中,所述至少两个电极中的每个电极覆盖有防止所述至少两个电极中的电荷穿过所述气体介质的绝缘体,并且其中,所述至少两个绝缘体中的每个绝缘体的表面涂敷有具有比所述绝缘体的材料更高的二次电子发射系数的材料,并且/n其中,当所述宇宙射线穿过所述CDDBD设备时,在不使用由所述电源提供的除初始电场能以外的能量的情况下,电荷在所述CDDBD设备的所述间隙内通过所述气体介质中气体分子的碰撞电离而被倍增。/n
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