[发明专利]抛光层用聚氨酯、包含聚氨酯的抛光层及该抛光层的改性方法、抛光垫及抛光方法有效
| 申请号： | 201880024840.8 | 申请日： | 2018-04-27 |
| 公开（公告）号： | CN110573547B | 公开（公告）日： | 2022-06-10 |
| 发明（设计）人： | 大下梓纱;竹越穰;加藤充;冈本知大;加藤晋哉 | 申请（专利权）人： | 株式会社可乐丽 |
| 主分类号： | C08G18/65 | 分类号： | C08G18/65;H01L21/304;B24B37/24 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 王利波 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供作为具有席夫碱的二醇或其衍生物的含席夫碱的扩链剂，另外，还提供使用其制造的聚氨酯及其改性方法、包含聚氨酯的抛光层、使用了该抛光层的抛光方法。 | ||
| 搜索关键词： | 抛光 聚氨酯 包含 改性 方法 | ||
【主权项】：
1.一种含席夫碱的扩链剂，其是用作聚氨酯制造原料的扩链剂，所述含席夫碱的扩链剂是含席夫碱的二醇、含席夫碱的二胺或它们的衍生物。/n
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