[发明专利]溅镀靶在审
申请号: | 201880022662.5 | 申请日: | 2018-04-11 |
公开(公告)号: | CN110475903A | 公开(公告)日: | 2019-11-19 |
发明(设计)人: | 安田刚规;坂胁彰 | 申请(专利权)人: | 昭和电工株式会社 |
主分类号: | C23C14/34 | 分类号: | C23C14/34;C04B35/462;H01M4/139;H01M4/58 |
代理公司: | 11247 北京市中咨律师事务所 | 代理人: | 马妮楠;曾祯<国际申请>=PCT/JP2 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 一种用于形成锂离子二次电池的正极层的溅镀靶(100),由多个第1粒子(110)和多个第2粒子(120)的烧结体构成,多个第1粒子(110)分别作为无机固体电解质包含锂磷氧化物(例如Li3PO4),多个第2粒子(120)分别作为正极活物质包含锂过渡金属氧化物(例如LiNiO2)。 | ||
搜索关键词: | 粒子 锂过渡金属氧化物 无机固体电解质 锂离子二次电池 正极活物质 锂磷氧化物 溅镀靶 烧结体 正极层 | ||
【主权项】:
1.一种溅镀靶,用于形成锂离子二次电池中的正极,/n所述溅镀靶由包含锂、过渡金属、磷和氧的烧结体构成。/n
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