[发明专利]用于均匀化气体的混合的设备在审
| 申请号： | 201880019412.6 | 申请日： | 2018-02-09 |
| 公开（公告）号： | CN110462384A | 公开（公告）日： | 2019-11-15 |
| 发明（设计）人： | T.D.杜布;J.戈特沙尔德;E.沃巴赫;M.温特 | 申请（专利权）人： | 艾默生过程管理两合公司 |
| 主分类号： | G01N21/76 | 分类号： | G01N21/76;G01N1/38;G01N33/00 |
| 代理公司： | 11105 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 许睿峤<国际申请>=PCT/EP2018 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | 本公开涉及机械工程领域。特别地，本公开涉及一种与化学发光检测器(CLD)一起使用的设备，其用于均匀化气体的混合，该设备包括外导管(102)；穿过所述外导管(102)的内导管(104)；第一通道(104)，其穿过所述内导管(102)限定，以导通所述两种流体中的一种；所述外导管(102)的内壁(102’)与所述内导管(104)的外壁(104’)间隔开以限定第二通道(102A)，用于导通所述两种流体中的第二流体；所述外导管(102)限定底端(102B)，所述内导管(104)限定相对于所述底端(102B)凹进的第一出口(104B)。反应区(106)限定在所述第一出口(104B)和所述底端(102B)之间的凹进部中，用于从所述第一通道(104A)和所述第二通道(102A)引入所述两种流体以均匀化。本发明的均匀化设备的技术进步在于，它有利于气体的均匀混合，并允许混合物在CLD探测器的中心行进，以避免由于不当的混合、气体短路流动和CLD中的光淬灭而引起的光子损失。 | ||
| 搜索关键词： | 内导管 外导管 流体 底端 均匀化 导通 化学发光检测器 穿过 机械工程领域 均匀化设备 第二流体 光子损失 技术进步 混合物 凹进部 凹进的 反应区 短路 探测器 淬灭 内壁 外壁 出口 行进 引入 流动 | ||
【主权项】：
1.一种用于均匀化两种流体的设备(100)，包括：/na)外导管(102)；/nb)内导管(104)，其穿过所述外导管(102)；/nc)第一通道(104)，其穿过所述内导管(102)限定，用于导通所述两种流体中的一种；/nd)所述外导管(102)的内壁(102’)与所述内导管(104)的外壁(104’)间隔开，以限定第二通道(102A)，用于导通所述两种流体中的第二流体；/ne)所述外导管(102)限定底端(102B)；/nf)所述内导管(104)限定相对于所述底端(102B)凹进的第一出口(104B)；以及/ng)反应区(106)，其限定在所述第一出口(104B)和所述底端(102B)之间的凹进部中，用于从所述第一通道(104A)和所述第二通道(102A)引入所述两种流体以均匀化。/n
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