[发明专利]AFX结构的沸石膜、膜结构体以及膜结构体的制造方法有效
| 申请号： | 201880014747.9 | 申请日： | 2018-03-15 |
| 公开（公告）号： | CN110446544B | 公开（公告）日： | 2021-10-22 |
| 发明（设计）人： | 萩尾健史;野田宪一;宫原诚;清水克哉 | 申请（专利权）人： | 日本碍子株式会社 |
| 主分类号： | B01D71/02 | 分类号： | B01D71/02;B01D69/00;B01D69/10;B01D69/12;C01B39/04;C01B39/54 |
| 代理公司： | 北京旭知行专利代理事务所(普通合伙) 11432 | 代理人： | 王轶;郑雪娜 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 在对AFX膜(20)的膜表面照射X射线而得到的X射线衍射图案中，(004)晶面的峰强度为(110)晶面的峰强度的3倍以上。 | ||
| 搜索关键词： | afx 结构 沸石膜 膜结构 以及 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种AFX结构的沸石膜，其中，在对膜表面照射X射线而得到的X射线衍射图案中，(004)晶面的峰强度为(110)晶面的峰强度的3倍以上。
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