[发明专利]抗蚀剂图案形成方法在审
| 申请号： | 201880014518.7 | 申请日： | 2018-02-21 |
| 公开（公告）号： | CN110383172A | 公开（公告）日： | 2019-10-25 |
| 发明（设计）人： | 佐藤信宽 | 申请（专利权）人： | 日本瑞翁株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/012 | 分类号： | G03F7/012;G03F7/20;G03F7/40 |
| 代理公司： | 北京柏杉松知识产权代理事务所(普通合伙) 11413 | 代理人： | 邵秋雨;刘继富 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明的目的在于提供一种抗蚀剂图案的形成方法，其能够形成剖面具有良好的倒锥形状、且减少了残留水分和残留有机组分的抗蚀剂图案。本发明的抗蚀剂图案形成方法包含下述工序：使用包含能够溶于碱的树脂、交联成分和有机溶剂的树脂液而形成放射线敏感性树脂膜的工序，将上述放射线敏感性树脂膜进行曝光而形成固化膜的工序，将上述固化膜进行显影而形成显影图案的工序，以及对上述显影图案施加显影后烘烤而得到抗蚀剂图案的工序，上述能够溶于碱的树脂包含35质量％以上且90质量％以下的聚乙烯酚树脂，上述显影后烘烤的温度为200℃以上。 | ||
| 搜索关键词： | 抗蚀剂图案 显影 放射线敏感性树脂 显影图案 固化膜 烘烤 树脂 残留 聚乙烯酚树脂 倒锥形状 有机溶剂 树脂液 施加 曝光 | ||
【主权项】：
1.一种抗蚀剂图案形成方法，其包含下述工序：使用包含能够溶于碱的树脂、交联成分和有机溶剂的树脂液，形成放射线敏感性树脂膜的工序，将所述放射线敏感性树脂膜进行曝光，形成固化膜的工序，将所述固化膜进行显影，形成显影图案的工序，以及对所述显影图案施加显影后烘烤，得到抗蚀剂图案的工序，所述能够溶于碱的树脂包含35质量％以上且90质量％以下的聚乙烯酚树脂，所述显影后烘烤的温度为200℃以上。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于日本瑞翁株式会社，未经日本瑞翁株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201880014518.7/，转载请声明来源钻瓜专利网。
