[发明专利]用于生产放射性同位素的辐照靶在审

专利信息
申请号: 201880013986.2 申请日: 2018-02-23
公开(公告)号: CN110462750A 公开(公告)日: 2019-11-15
发明(设计)人: B.D.菲舍尔;E.B.巴杰;W.E.拉塞尔二世 申请(专利权)人: BWXT同位素技术集团有限公司
主分类号: G21G1/06 分类号: G21G1/06;G21G4/00;G21G4/06
代理公司: 11105 北京市柳沈律师事务所 代理人: 曲莹<国际申请>=PCT/US2018/
地址: 美国弗*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 一种用于生产放射性同位素的辐照靶,包括:至少一个板,其限定中心开口;和细长中心构件,其穿过至少一个板的中心开口,使得至少一个板保持在其上,其中至少一个板和细长中心构件均由通过中子俘获产生钼‑99(Mo‑99)的材料形成。
搜索关键词: 中心构件 中心开口 放射性同位素 辐照 材料形成 中子俘获 穿过 生产
【主权项】:
1.一种用于生产放射性同位素的辐照靶,包括:/n至少一个板,其限定中心开口;和/n细长中心构件,其穿过所述至少一个板的中心开口,使得所述至少一个板保持在其上,/n其中,所述至少一个板和细长中心构件均由通过中子俘获产生钼-99(Mo-99)的材料形成。/n
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