[发明专利]光学活性吡咯烷化合物的制造方法有效
| 申请号： | 201880009250.8 | 申请日： | 2018-01-30 |
| 公开（公告）号： | CN110234626B | 公开（公告）日： | 2023-07-21 |
| 发明（设计）人： | 手嶋崇雄;山上高史;山口哲央;安藤润纪 | 申请（专利权）人： | 田边三菱制药株式会社 |
| 主分类号： | C07D211/62 | 分类号： | C07D211/62;C07B53/00;C07D401/10 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 杨宏军;唐峥 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： |
本发明提供式(VII)表示的化合物的制造方法，所述方法包括下述工序：在疏水性溶剂及水的二层系溶剂中，在碱及手性催化剂的存在下，使式(VI)表示的化合物与丙二酸衍生物反应。式中，R |
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| 搜索关键词： | 光学 活性 吡咯烷 化合物 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.式(VII)表示的化合物的制造方法，所述方法包括下述工序：在疏水性溶剂及水的二层系溶剂中，在碱及手性催化剂的存在下，使式(VI)表示的化合物与丙二酸衍生物反应，[化学式1]![]()
式(VI)中，R2表示羧基的保护基，[化学式2]![]()
式(VII)中，R2及R3各自独立地表示羧基的保护基。
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