[发明专利]微调过程模型的方法有效
| 申请号： | 201880008283.0 | 申请日： | 2018-01-24 |
| 公开（公告）号： | CN110325921B | 公开（公告）日： | 2022-02-18 |
| 发明（设计）人： | 冯牧;M·F·沙伊甘萨拉克;朱典文;郑雷武;拉斐尔·C·豪厄尔;王祯祥 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 胡良均 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明中披露了构造过程模型的方法，该过程模型用于根据在不同处理条件下产生的图案模拟光刻术的产品的特性。所述方法使用该被模拟的特性的变化与被测量的特性的变化之间的偏差以调整该过程模型的参数。 | ||
| 搜索关键词： | 微调 过程 模型 方法 | ||
【主权项】：
1.一种方法，包括：通过使用包括参数的过程模型在多个处理条件下模拟光刻术的产品的特性而获得被模拟的特性；确定所述被模拟的特性的变化；通过根据在所述多个处理条件下产生的图案测量所述产品的所述特性而获得被测量的特性；确定所述被测量的特性的变化；确定所述被模拟的特性的所述变化与所述被测量的特性的所述变化之间的第一偏差；和基于所述第一偏差调整所述参数。
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