[发明专利]抗蚀剂组合物以及抗蚀剂图案形成方法在审
| 申请号： | 201880006892.2 | 申请日： | 2018-01-12 |
| 公开（公告）号： | CN110192151A | 公开（公告）日： | 2019-08-30 |
| 发明（设计）人： | 生川智启;藤崎真史;长峰高志;高木大地 | 申请（专利权）人： | 东京应化工业株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/004 | 分类号： | G03F7/004;G03F7/038;G03F7/039 |
| 代理公司： | 上海立群专利代理事务所(普通合伙) 31291 | 代理人： | 毛立群 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种抗蚀剂组合物，通过曝光产生酸，并且对显影液的溶解性因酸的作用而变化，其特征在于，含有对显影液的溶解性因酸的作用而变化的基材成分(A)与通过曝光产生酸的产酸剂成分(B)，所述产酸剂成分(B)含有2种化合物。 | ||
| 搜索关键词： | 抗蚀剂组合物 产酸剂 显影液 抗蚀剂图案 曝光 基材 | ||
【主权项】：
1.一种抗蚀剂组合物，通过曝光产生酸、并且对显影液的溶解性因酸的作用而变化，其特征在于，含有对显影液的溶解性因酸的作用而变化的基材成分(A)与通过曝光产生酸的产酸剂成分(B)，所述产酸剂成分(B)包含以下述通式(b1)表示的化合物与以下述通式(b2)表示的化合物，【化1】![]()
通式(b1)中，Rb11是具有取代基的芳基，Rb12以及Rb13分别独立地为可具有取代基的碳数1～10的烷基、乙酰基、碳数1～10的烷氧基、羧基或羟基，nb12是0～2的整数，nb13是0～4的整数，X‑是反荷阴离子，【化2】![]()
通式(b2)中，R201～R203分别独立地表示可具有取代基的芳基，Z‑是反荷阴离子。
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