[发明专利]溅镀靶、积层膜的制造方法、积层膜及磁记录媒体在审
| 申请号： | 201880003554.3 | 申请日： | 2018-08-16 |
| 公开（公告）号： | CN109819661A | 公开（公告）日： | 2019-05-28 |
| 发明（设计）人： | 清水正义;岩渊靖幸;增田爱美 | 申请（专利权）人： | JX金属株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C23C14/06;G11B5/64;G11B5/851;H01F41/18 |
| 代理公司： | 北京戈程知识产权代理有限公司 11314 | 代理人： | 程伟 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明的溅镀靶含有Co及Pt作为金属成分，Pt的含量相对于Co的含量的摩尔比为5/100～45/100，且含有Nb2O5作为金属氧化物成分。 | ||
| 搜索关键词： | 溅镀靶 积层 磁记录媒体 金属氧化物 摩尔比 金属 制造 | ||
【主权项】：
1.一种溅镀靶，其含有Co及Pt作为金属成分，Pt的含量相对于Co的含量的摩尔比为5/100～45/100，且含有Nb2O5作为金属氧化物成分。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于JX金属株式会社，未经JX金属株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201880003554.3/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
