[外观设计]等离子处理装置用电极板外周环有效
| 申请号： | 201830046523.9 | 申请日： | 2018-01-31 |
| 公开（公告）号： | CN304826211S | 公开（公告）日： | 2018-09-21 |
| 发明（设计）人： | 矶崎真一;森政士;横川贤悦;荒濑高男;桥本尊久 | 申请（专利权）人： | 株式会社日立高新技术 |
| 主分类号： | 15-99 | 分类号： | 15-99 |
| 代理公司： | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人： | 丁文蕴;许凯 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 1．本外观设计产品的名称：等离子处理装置用电极板外周环。2．本外观设计产品的用途：如使用状态及示出各部名称参考图所示，本产品为在半导体制造的等离子处理装置中，设置在喷出气体的电极板外周附近的外周环。3．本外观设计产品的设计要点：本外观设计产品的形状。4．最能表明本外观设计设计要点的图片或照片：立体图2。5．在使用状态及示出各部名称参考图中，F ‑硅片，G ‑等离子受光端口，H‑等离子处理装置用电极板，I‑本外观设计产品，J‑等离子处理装置用感受器，K‑本外观设计产品，L‑锥形部。 | ||
| 搜索关键词： | 外观设计 等离子处理装置 用电极板 外周环 半导体制造 等离子 电极板 感受器 锥形部 硅片 喷出 受光 外周 图片 | ||
【主权项】：
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