[实用新型]一种高增透抗反射光学薄膜

摘要

本实用新型公开一种高增透抗反射光学薄膜，由四层高、低折射率的材料交错叠加而成，而且，从与基底接触向外，四层分别是第四层：低折射率SiO₂层、光学厚度(K)1.10、几何厚度(D)93.42，第三层：高折射率Ti₃O₅层、光学厚度(K)2.00、几何厚度(D)118.25，第二层：低折射率SiO₂层、光学厚度(K)0.35、几何厚度(D)29.79，第一层：高折射率Ti₃O₅层、光学厚度(K)0.32、几何厚度(D)21.06～17.06，厚度单位nm。本实用新型只需改变第一层膜厚就可以直接使用在各种材质基底的镜片上镀膜。针对不同镜片基底，可免去二次优化设计，光谱曲线优化容易。

主权项

1.一种高增透抗反射光学薄膜，其特征在于：由四层高、低折射率的材料交错叠加而成，而且，从与基底接触向外，四层分别是第四层：低折射率SiO₂层、光学厚度K1.10、几何厚度D 93.42，第三层：高折射率Ti₃O₅层、光学厚度K2.00、几何厚度D118.25，第二层：低折射率SiO₂层、光学厚度K0.35、几何厚度D 29.79，第一层：高折射率Ti₃O₅层、光学厚度K0.32、几何厚度D21.06～17.06，厚度单位nm。