[实用新型]一种控制离子源能量均匀性的装置有效
申请号: | 201822165515.3 | 申请日: | 2018-12-21 |
公开(公告)号: | CN209276618U | 公开(公告)日: | 2019-08-20 |
发明(设计)人: | 刘军;汪鹏 | 申请(专利权)人: | 江西水晶光电有限公司 |
主分类号: | C23C14/32 | 分类号: | C23C14/32 |
代理公司: | 温州名创知识产权代理有限公司 33258 | 代理人: | 程嘉炜 |
地址: | 335000 江西省*** | 国省代码: | 江西;36 |
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摘要: | 本实用新型涉及一种控制离子源能量均匀性的装置,保证能量强度的同时,修正能量强度均匀性。为实现上述目的,本实用新型提供了如下技术方案:一种控制离子源能量均匀性的装置,包括离子源、蒸发源、镀膜机腔室、伞罩,其特征是:所述离子源、蒸发源、伞罩设置于镀膜机腔室内,所述离子源设有离子源修正组件。 | ||
搜索关键词: | 离子源 均匀性 本实用新型 镀膜机 蒸发源 伞罩 强度均匀性 修正组件 腔室 室内 修正 保证 | ||
【主权项】:
1.一种控制离子源能量均匀性的装置,包括离子源、蒸发源、镀膜机腔室、伞罩,其特征是:所述离子源、蒸发源、伞罩设置于镀膜机腔室内,所述离子源设有离子源修正组件。
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