[实用新型]化学机械抛光垫有效

专利信息
申请号: 201822126821.6 申请日: 2018-12-18
公开(公告)号: CN209466099U 公开(公告)日: 2019-10-08
发明(设计)人: 张泽芳;彭诗月 申请(专利权)人: 上海映智研磨材料有限公司
主分类号: B24B37/26 分类号: B24B37/26;B24B57/02
代理公司: 上海光华专利事务所(普通合伙) 31219 代理人: 张新鑫;许亦琳
地址: 201799 上海市青浦区青*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 实用新型提供一种化学机械抛光垫,所述抛光垫整体呈圆形,所述抛光垫的中央部分为抛光区,所述抛光区为圆形,所述抛光区上设置内凹槽,所述内凹槽呈网络状分布在抛光区,所述内凹槽将抛光区分割成若干大小一致、均匀排布的正多边形或者圆形,所述抛光垫除抛光区以外的部分为外凹槽区,所述外凹槽区设置若干均匀排布的弧度方向一致的弧形外凹槽,所述外凹槽的一端延伸至抛光区、另外一端延伸至抛光垫的边缘,所述外凹槽与内凹槽连通;所述外凹槽宽度为2‑5.5mm,相邻两个所述外凹槽之间的距离是为5mm‑20mm,所述内凹槽的槽底所在的水平面不低于外凹槽的槽底所在的水平面。采用本装置排屑能力高,提高了抛光效率。
搜索关键词: 外凹槽 抛光区 内凹槽 抛光垫 均匀排布 化学机械抛光垫 化学机械抛光 网络状分布 大小一致 方向一致 排屑能力 抛光效率 正多边形 延伸 连通 分割
【主权项】:
1.一种化学机械抛光垫,其特征在于,所述抛光垫整体呈圆形,所述抛光垫的中央部分为抛光区,所述抛光区为圆形,所述抛光区上设置内凹槽,所述内凹槽呈网络状分布在抛光区,所述内凹槽将抛光区分割成若干大小一致、均匀排布的正多边形或者圆形,所述抛光垫除抛光区以外的部分为外凹槽区,所述外凹槽区设置若干均匀排布的弧度方向一致的弧形外凹槽,所述外凹槽的一端延伸至抛光区、另外一端延伸至抛光垫的边缘,所述外凹槽与内凹槽连通;所述外凹槽宽度为2‑5.5mm,相邻两个所述外凹槽之间的距离是为5mm‑20mm,所述内凹槽的槽底所在的水平面不低于外凹槽的槽底所在的水平面。
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