[实用新型]检验射击残留物的红外光谱成像系统有效

专利信息
申请号: 201821983989.2 申请日: 2018-11-28
公开(公告)号: CN209764705U 公开(公告)日: 2019-12-10
发明(设计)人: 张苗苗 申请(专利权)人: 张苗苗
主分类号: G01N21/25 分类号: G01N21/25
代理公司: 51224 成都顶峰专利事务所(普通合伙) 代理人: 曾凯
地址: 430000 湖*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 实用新型属于射击残留物检测技术领域,公开了一种检验射击残留物的红外光谱成像系统,包括可见光光谱成像仪及红外滤光器,所述红外滤光器设置在所述可见光光谱成像仪的物镜的前端,从射击残留物面反射的红外光依次通过所述红外滤光器及所述物镜。本实用新型的红外光谱成像系统便于携带和使用,可以用于现场勘查和对大面积纺织物的检验。
搜索关键词: 红外滤光器 红外光谱成像 本实用新型 可见光光谱 射击 物镜 红外光 残留物检测 便于携带 现场勘查 成像仪 纺织物 反射 检验 成像
【主权项】:
1.一种检验射击残留物的红外光谱成像系统,其特征在于:包括可见光光谱成像仪及红外滤光器,所述红外滤光器设置在所述可见光光谱成像仪的物镜的前端,从射击残留物面反射的红外光依次通过所述红外滤光器及所述物镜。/n
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