[实用新型]一种集成显示调控的多功能磁控溅射教学实验装置有效
申请号: | 201821981057.4 | 申请日: | 2018-11-28 |
公开(公告)号: | CN209281743U | 公开(公告)日: | 2019-08-20 |
发明(设计)人: | 余云鹏;沈奕;张汉焱;王江涌;魏裕民 | 申请(专利权)人: | 汕头大学;汕头超声显示器技术有限公司 |
主分类号: | G09B25/00 | 分类号: | G09B25/00 |
代理公司: | 广州三环专利商标代理有限公司 44202 | 代理人: | 周增元;曹江 |
地址: | 515000 *** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种集成显示调控的多功能磁控溅射教学实验装置,结构简单但集合了多种实验教学内容,多种参数且可显示可控制。腔盖密封贴合反应腔的开口,腔盖由升降装置驱动升降;基片座设置于腔盖内侧,基片座具有加热装置,基片座由基片座驱动装置驱动转动;溅射靶顶面设置有靶挡板,靶挡板由靶挡板驱动装置驱动摆动,基片座底面设置有基片挡板,基片挡板由基片挡板驱动装置驱动摆动;充气装置、抽真空装置与反应腔通气连接;各种装置分别与显示控制装置电连接。本实用新型采用带观察窗的单室结构,可以开展温度、压强、基片偏压、溅射功率、气体种类及比例、材料组分等多参数条件下的反应溅射,使得同一设备可完成多项实验教学内容。 | ||
搜索关键词: | 基片座 基片挡板 腔盖 多功能磁控溅射 教学实验装置 实验教学内容 本实用新型 挡板 驱动装置 反应腔 摆动 驱动 挡板驱动装置 显示控制装置 压强 抽真空装置 充气装置 单室结构 反应溅射 基片偏压 加热装置 溅射功率 密封贴合 驱动转动 升降装置 同一设备 电连接 多参数 观察窗 溅射靶 可控制 可显示 调控 底面 顶面 通气 升降 集合 开口 | ||
【主权项】:
1.一种集成显示调控的多功能磁控溅射教学实验装置,其特征在于,包括反应腔、腔盖、至少两个溅射靶、基片座、充气装置、抽真空装置、显示控制装置;所述腔盖密封贴合所述反应腔的开口,所述腔盖由升降装置驱动升降;所述基片座设置于所述腔盖内侧,所述基片座具有加热装置,所述基片座由基片座驱动装置驱动转动;所述溅射靶设置于所述反应腔内,所述溅射靶之间设置有侧挡板;所述溅射靶顶面设置有靶挡板,所述靶挡板由所述靶挡板驱动装置驱动摆动,所述基片座底面设置有基片挡板,所述基片挡板由基片挡板驱动装置驱动摆动;所述充气装置、抽真空装置与所述反应腔通气连接;所述腔盖驱动装置、加热装置、基片座驱动装置、靶挡板驱动装置、基片挡板驱动装置、充气装置、抽真空装置分别与所述显示控制装置电连接。
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