[实用新型]一种光源结构、光学投影模组、感测装置及设备有效
| 申请号： | 201821957256.1 | 申请日： | 2018-11-24 |
| 公开（公告）号： | CN209327768U | 公开（公告）日： | 2019-08-30 |
| 发明（设计）人： | 田浦延 | 申请（专利权）人： | 深圳阜时科技有限公司 |
| 主分类号： | G03B21/20 | 分类号： | G03B21/20;G01B11/24 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 518055 广东省深圳市南山*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本实用新型适用于光学和电子技术领域，提供了一种光源结构，其用于发射光束至一被测目标物上进行三维感测。所述光源结构包括半导体基底及形成在所述半导体基底上的多个发光单元。所述发光单元可划分为多个发光单元集合。所述发光单元集合按照预设的周期重复排布。每一个所述发光单元集合包括三个或以上非周期性排布的发光单元。本实用新型还提供一种使用该光源结构的光学投影模组、感测装置及设备。 | ||
| 搜索关键词： | 发光单元 光源结构 半导体基底 本实用新型 集合 感测装置 光学投影 模组 排布 电子技术领域 被测目标 发射光束 非周期性 周期重复 感测 预设 三维 | ||
【主权项】：
1.一种光源结构，其特征在于：其用于发射光束至一被测目标物上进行三维感测，所述光源结构包括半导体基底及形成在所述半导体基底上的多个发光单元，所述发光单元可划分为多个发光单元集合，所述发光单元集合按照预设的周期重复排布，每一个所述发光单元集合包括三个或以上非周期性排布的发光单元。
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