[实用新型]一种弧源错开排列的多弧离子镀设备

摘要

本实用新型涉及镀膜机技术领域，且公开了一种弧源错开排列的多弧离子镀设备，包括真空室底部的两侧均设置有支撑架的真空室，真空室的内壁上安装有保温层，真空室一侧的底端连通有位于保温层内部的抽气管，真空室和保温层的外壁上共同安装有内部设置有靶材的弧源，真空室的顶部连通有位于保温层内部的进气管，真空室和保温层的顶部共同固定安装有热电偶，真空室底部的中心处转动连接有顶部安装有载物架的载物台。该弧源错开排列的多弧离子镀设备，通过第一衬板、第二衬板、第三衬板和衬垫的配合使用，使得真空室内部在经热电偶进行加热后，装置内部的热量流失率较低保温效果好，基片可以获得良好的膜层组织。

主权项

1.一种弧源错开排列的多弧离子镀设备，包括真空室(1)底部的两侧均设置有支撑架的真空室(1)，其特征在于：所述真空室(1)的内壁上安装有保温层(2)，所述真空室(1)一侧的底端连通有位于保温层(2)内部的抽气管(3)，所述真空室(1)和保温层(2)的外壁上共同安装有内部设置有靶材的弧源(4)，所述真空室(1)的顶部连通有位于保温层(2)内部的进气管(5)，所述真空室(1)和保温层(2)的顶部共同固定安装有热电偶(6)，所述真空室(1)底部的中心处转动连接有顶部安装有载物架的载物台(7)，所述载物台(7)的底端通过转接套固定套接有电机(8)，所述真空室(1)位于载物台(7)外侧的内腔底部固定连接有保护板(9)，所述真空室(1)位于弧源(4)下方的内壁处固定安装有垫板(10)。