[实用新型]一种UV纳米光刻机设备有效
| 申请号： | 201821764905.6 | 申请日： | 2018-10-25 |
| 公开（公告）号： | CN209103102U | 公开（公告）日： | 2019-07-12 |
| 发明（设计）人： | 郑跃勇;刘斌 | 申请（专利权）人： | 宁波微迅新材料科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 宁波市鄞州甬致专利代理事务所(普通合伙) 33228 | 代理人： | 李迎春 |
| 地址： | 315000 浙江省*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种UV纳米光刻机设备，包括光源、聚光透镜组、遮光镜、聚光透镜、第一折射镜、凹面反射镜及工作平台，所述聚光透镜组前还设有滤光镜和滤波器，所述聚光透镜组为多组鹰眼聚光镜，所述滤光镜、滤波器、鹰眼聚光镜、遮光镜、聚光透镜位于同一轴线上，且与所述第一折射镜对应，所述第一折射镜与一侧上方的凹面反射镜对应，所述凹面反射镜与其下方的工作平台对应。本实用新型通过加设滤光镜和滤波器，对光线进行处理，是是光刻时，只进行一种颜色且按特定方向进行光刻，其光刻效果更好。 | ||
| 搜索关键词： | 滤波器 凹面反射镜 聚光透镜组 滤光镜 折射镜 光刻 本实用新型 工作平台 聚光透镜 纳米光刻 聚光镜 遮光镜 鹰眼 同一轴线 光源 | ||
【主权项】：
1.一种UV纳米光刻机设备，包括光源、聚光透镜组、遮光镜(8)、聚光透镜、第一折射镜(10)、凹面反射镜(11)及工作平台(12)，其特征在于：所述聚光透镜组前还设有滤光镜(5)和滤波器(6)，所述聚光透镜组为多组鹰眼聚光镜(7)，所述滤光镜(5)、滤波器(6)、鹰眼聚光镜(7)、遮光镜(8)、聚光透镜位于同一轴线上，且与所述第一折射镜(10)对应，所述第一折射镜(10)与一侧上方的所述凹面反射镜(11)对应，所述凹面反射镜(11)与其下方的所述工作平台(12)对应。
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