[实用新型]抛光头真空吸附结构及抛光头有效
| 申请号： | 201821719359.4 | 申请日： | 2018-10-23 |
| 公开（公告）号： | CN209062814U | 公开（公告）日： | 2019-07-05 |
| 发明（设计）人： | 刘桂勇;宋士佳;李琳琳 | 申请（专利权）人： | 东泰高科装备科技有限公司 |
| 主分类号： | B24B29/02 | 分类号： | B24B29/02;B24B41/00 |
| 代理公司： | 北京维澳专利代理有限公司 11252 | 代理人： | 王立民;周放 |
| 地址： | 102209 北京市昌平*** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本实用新型公开了一种抛光头真空吸附结构及抛光头，其中，该吸附结构包括主体，主体的吸附面上设置有环形吸附槽和多个直线吸附槽，每个直线吸附槽的一端均设置在环形吸附槽的中心，每个直线吸附槽的另一端与环形吸附槽相连，相邻两个直线吸附槽之间的夹角相等。本实用新型提供的抛光头真空吸附结构及抛光头，通过设置环形吸附槽和多个均匀分布的直线吸附槽，实现了使承载盘受力均衡，同时使抛光头与承载盘之间的吸附更为紧密，有效避免了抛光过程中承载盘的相对转动或滑动，保证了衬底在抛光过程中的受力稳定性，有效改善了衬底的平整度。 | ||
| 搜索关键词： | 吸附槽 抛光头 真空吸附结构 承载盘 本实用新型 抛光过程 衬底 吸附 受力稳定性 受力均衡 吸附结构 平整度 滑动 相等 保证 | ||
【主权项】：
1.一种抛光头真空吸附结构，其特征在于，包括：主体，所述主体的吸附面上设置有环形吸附槽和多个直线吸附槽，每个所述直线吸附槽的第一端均设置在所述环形吸附槽的中心，每个所述直线吸附槽的第二端均与所述环形吸附槽相连通，相邻两个直线吸附槽之间的夹角相等。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于东泰高科装备科技有限公司，未经东泰高科装备科技有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201821719359.4/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种不锈钢材表面抛光机
- 下一篇：一种抛光机
