[实用新型]一种光学测距装置有效
| 申请号： | 201821123390.1 | 申请日： | 2018-07-16 |
| 公开（公告）号： | CN208334648U | 公开（公告）日： | 2019-01-04 |
| 发明（设计）人： | 吴德生;林高 | 申请（专利权）人： | 信利光电股份有限公司 |
| 主分类号： | G01S17/08 | 分类号： | G01S17/08 |
| 代理公司： | 广州粤高专利商标代理有限公司 44102 | 代理人： | 邓义华;廖苑滨 |
| 地址： | 516600 广东省汕*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种光学测距装置，用于测得接受场的距离，包括第一衍射光学系统和第二衍射光学系统，其中第一衍射光学系统包括依次远离接受场设置的第一DOE、第一凸透镜和第一光源，第二衍射光学系统包括依次远离接受场设置的第二DOE、第二凸透镜和第二光源；所述第一衍射光学系统用于产生大小不随第一光源和接受场的距离变化而变化的刻度盘，刻度盘上包括有若干个从内向外逐渐增大的圈，所述圈的不同大小代表接受场的不同固定距离；所述第二衍射光学系统用于产生大小随第二光源和接受场的距离变化而变化的图案，且第二衍射光学系统与第一衍射光学系统呈一夹角设置，结构简单，造价低。 | ||
| 搜索关键词： | 衍射光学系统 光源 凸透镜 光学测距装置 距离变化 刻度盘 本实用新型 固定距离 夹角设置 逐渐增大 图案 | ||
【主权项】：
1.一种光学测距装置，其特征在于，用于测得接受场的距离，包括第一衍射光学系统和第二衍射光学系统，其中第一衍射光学系统包括依次远离接受场设置的第一DOE、第一凸透镜和第一光源，第二衍射光学系统包括依次远离接受场设置的第二DOE、第二凸透镜和第二光源；所述第一衍射光学系统用于产生大小不随第一光源和接受场的距离变化而变化的刻度盘，刻度盘上包括有若干个从内向外逐渐增大的圈，圈的不同大小代表接受场的不同固定距离；所述第二衍射光学系统用于产生大小随第二光源和接受场的距离变化而变化的图案，且第二衍射光学系统与第一衍射光学系统呈一夹角设置。
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