[实用新型]屏蔽罩构造有效
申请号: | 201821063831.3 | 申请日: | 2018-07-04 |
公开(公告)号: | CN208490113U | 公开(公告)日: | 2019-02-12 |
发明(设计)人: | 吴孟杰 | 申请(专利权)人: | 延陵精密电子(昆山)有限公司 |
主分类号: | H05K9/00 | 分类号: | H05K9/00 |
代理公司: | 北京科龙寰宇知识产权代理有限责任公司 11139 | 代理人: | 孙皓晨;李林 |
地址: | 215301 江苏省苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本实用新型提供一种屏蔽罩构造,其包含一上盖,该上盖设有一顶盖以及一第一侧壁,该顶盖形成有一下陷区域以及一侧缘区域,该下陷区域与侧缘区域之间具有直角台阶面的结构;一侧框,该上盖罩设结合于该侧框的上方,该侧框设有一凸缘部以及一第二侧壁,该凸缘部的形状及尺寸与该侧缘区域的形状及尺寸相对应。如此,本实用新型即可无需或省略现有屏蔽罩的设置导电布或导电泡棉的工序与材料,同时仍可确保良好的屏蔽效果,从而可简化制造工序并降低制造成本,进而可大幅提高本实用新型的实用性。 | ||
搜索关键词: | 本实用新型 屏蔽罩 侧缘区域 顶盖 凸缘部 侧框 上盖 简化制造工序 导电泡棉 第二侧壁 第一侧壁 屏蔽效果 下陷区域 直角台阶 制造成本 导电布 上盖罩 省略 | ||
【主权项】:
1.一种屏蔽罩构造,其特征是包含:一上盖,该上盖设有一顶盖以及一第一侧壁,该第一侧壁垂直地与顶盖的侧边相连接且环绕地设置于顶盖的周围,该上盖在顶盖的侧边向内缩的范围内形成有一下陷区域,而使该顶盖形成有具有较低的高度位置的该下陷区域以及一具有较高的高度位置且位于该下陷区域与顶盖的侧边之间的侧缘区域,该顶盖的侧缘区域的内表面与该下陷区域的内表面之间的交界处形成有直角台阶面;一侧框,该上盖罩设结合于该侧框的上方,该侧框设有一凸缘部以及一第二侧壁,该第二侧壁垂直地与凸缘部的侧边相连接且环绕地设置于凸缘部周围,该凸缘部的形状及尺寸与该上盖的侧缘区域的形状及尺寸相对应。
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