[实用新型]投影模组、深度相机及电子设备有效

专利信息
申请号: 201820915347.2 申请日: 2018-06-13
公开(公告)号: CN208351151U 公开(公告)日: 2019-01-08
发明(设计)人: 王兆民;许星 申请(专利权)人: 深圳奥比中光科技有限公司
主分类号: G02B27/42 分类号: G02B27/42;G02B27/00;G03B21/20
代理公司: 深圳新创友知识产权代理有限公司 44223 代理人: 孟学英
地址: 518000 广东省深圳市南*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 实用新型提供一种投影模组、深度相机及电子设备,投影模组包括:光源芯片,用于发射光束;透镜,安装在所述光源芯片上方,用于接收并汇聚所述光源芯片发射的光束;衍射光学元件,安装在所述光源芯片上方,用于接收经所述透镜汇聚后的光束并投射图案化光束;校正光学元件,安装在所述光源芯片上方,用于对所述衍射光学元件发射出的所述图案化光束进行畸变校正。通过在衍射光学元件的外侧增加一个校正光学元件对图案化光束的边缘区域的图案进行畸变校正,从而以较小的厚度实现更大视场角的投影,且所投影的图案具有更高的密度或亮度分布均匀度。
搜索关键词: 光源芯片 衍射光学元件 投影模组 透镜 校正光学元件 图案化光束 电子设备 畸变校正 深度相机 投影 汇聚 图案 本实用新型 边缘区域 大视场角 发射光束 亮度分布 投射图案 发射 均匀度
【主权项】:
1.一种投影模组,其特征在于,包括:光源芯片,用于发射光束;透镜,安装在所述光源芯片上方,用于接收并汇聚所述光源芯片发射的光束;衍射光学元件,安装在所述光源芯片上方,用于接收经所述透镜汇聚后的光束并投射图案化光束;校正光学元件,安装在所述光源芯片上方,用于对所述衍射光学元件发射出的所述图案化光束进行畸变校正。
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