[实用新型]一种化学铜分析控制系统

摘要

本实用新型提供一种化学铜分析控制系统，包括分析控制装置、化学铜工作缸、多个添加泵及多个添加缸；分析控制装置包括信号连接的控制主机和铜离子传感器，铜离子传感器包括位于上部的电子箱以及位于下部的光学导管，光学导管浸在化学铜工作缸内的工作液中，电子箱露出于所述化学铜工作缸的液面以上，控制主机设有操作板及多个泵输出线孔，多个泵输出线孔分别通过电缆线与多个添加泵连接，每个添加泵均与一添加缸连通，添加缸内装有铜离子溶液，还设有液位传感器，液位传感器与控制主机信号连接，通过控制主机控制添加泵将所述添加缸内的溶液泵入所述铜缸内，并通过铜离子传感器测得铜缸内的铜离子浓度。本实用新型结构简单紧凑，自动化程度高。

主权项

1.一种化学铜分析控制系统，其特征在于：其包括分析控制装置、化学铜工作缸、多个添加泵及多个添加缸；所述分析控制装置包括信号连接的控制主机和铜离子传感器，所述铜离子传感器包括位于上部的电子箱以及位于下部的光学导管，所述光学导管浸在所述化学铜工作缸内的工作液中，所述电子箱露出于所述化学铜工作缸的液面以上，所述控制主机设有操作板及多个泵输出线孔，所述多个泵输出线孔分别通过电缆线与所述多个添加泵连接，每个所述添加泵均与一所述添加缸对应连通，所述添加缸内装有铜离子溶液，所述添加缸内还设有液位传感器，所述液位传感器连接于所述控制主机，通过所述控制主机控制所述添加泵将所述添加缸内的溶液泵入所述铜缸内，并通过所述铜离子传感器测得所述铜缸内的铜离子浓度，由所述控制主机进行分析。