[实用新型]一种护理水床有效

专利信息
申请号: 201820637433.1 申请日: 2018-04-28
公开(公告)号: CN209500106U 公开(公告)日: 2019-10-18
发明(设计)人: 冯伟;顾洪生;张艳辉;尹铎;张晨宁;吴新宇;徐国卿;何勇;冯亚春;彭安思 申请(专利权)人: 深圳先进技术研究院
主分类号: A61G7/00 分类号: A61G7/00;A61G7/057
代理公司: 深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙) 44280 代理人: 李庆波
地址: 518055 广东省深圳*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 本申请公开了一种护理水床,护理水床包括:水床本体,水床本体包括:至少两个水囊;控制系统,控制系统包括:压力传感器阵列,压力传感器阵列位于水囊的上表面,用于感知用户躺在水囊上时的压力分布,控制系统分析压力分布,判断当前躺在水囊上方的用户的姿势,并在接收到触发指令后,控制至少两个水囊中的水位发生改变,以帮助用户改变当前的姿势。通过该护理水床,能够改变用户的姿势,预防褥疮。
搜索关键词: 水床 水囊 控制系统 护理 姿势 压力传感器阵列 水床本体 压力分布 触发指令 上表面 褥疮 感知 水位 预防 申请 分析 帮助
【主权项】:
1.一种护理水床,其特征在于,包括:水床本体,所述水床本体包括:至少两个水囊,所述至少两个水囊包括:第一水囊、第二水囊以及第三水囊,所述第一水囊、所述第二水囊并列设置,所述第一水囊和所述第二水囊分别用于承载用户左右部分的躯体和大腿,所述第三水囊与所述第一水囊和所述第二水囊整体并排设置,所述第三水囊用于承载用户的膝关节和小腿;控制系统,所述控制系统包括:压力传感器阵列,所述压力传感器阵列位于所述水囊的上表面,用于感知用户躺在所述水囊上时的压力分布,所述控制系统分析所述压力分布,判断当前躺在所述水囊上方的用户的姿势,并在接收到触发指令后,控制所述第一水囊、所述第二水囊、所述第三水囊中的水位发生改变,从而在所述第一水囊、所述第二水囊、所述第三水囊的配合下,帮助所述用户改变当前的姿势,其中,所述帮助所述用户改变当前的姿势包括:帮助躺在所述水囊上方的用户翻身或者抬腿或者平躺。
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