[实用新型]一种高纯铜旋转靶的外圆抛光设备

摘要

本实用新型公开了一种高纯铜旋转靶的外圆抛光设备，包括机架、装夹装置和抛光装置，装夹装置和抛光装置分别安装于机架之上，抛光装置包括有一滑动底座和横向驱动机构，滑动底座滑动安装于机架，横向驱动机构传动连接滑动底座，滑动底座的上部旋转安装有一摆臂，摆臂安装有能够替换使用的抛光带，摆臂安装有抛光电机，抛光电机传动连接抛光带，以实现抛光带循环移动，使用具有横向调节功能的抛光装置，实现长度较长的旋转靶材的整管抛光；利用抛光电机驱动可替换使用的抛光带发生循环移动，以对旋转靶材的靶材表面进行均匀且精度高的抛光打磨。

主权项

1.一种高纯铜旋转靶的外圆抛光设备，包括机架、用于装夹旋转靶的装夹装置和抛光装置，装夹装置和抛光装置分别安装于机架之上，其特征在于：抛光装置包括有一滑动底座(2)和横向驱动机构，滑动底座(2)滑动安装于机架，横向驱动机构传动连接滑动底座(2)，滑动底座(2)的上部旋转安装有一摆臂(1)，摆臂(1)安装有能够替换使用的抛光带(11)，摆臂(1)安装有抛光电机(13)，抛光电机(13)传动连接抛光带(11)，以实现抛光带(11)循环移动。