[实用新型]流动注射分析仪的光学系统及检测系统有效
| 申请号: | 201820332271.0 | 申请日: | 2018-03-12 |
| 公开(公告)号: | CN208076372U | 公开(公告)日: | 2018-11-09 |
| 发明(设计)人: | 魏月仙;张峥锋;王唯;闫杰 | 申请(专利权)人: | 北京博睿仪器有限公司 |
| 主分类号: | G01N21/01 | 分类号: | G01N21/01 |
| 代理公司: | 深圳市中原力和专利商标事务所(普通合伙) 44289 | 代理人: | 谢芝柏 |
| 地址: | 100176 北京市大兴区北京经济技术*** | 国省代码: | 北京;11 |
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| 摘要: | 本实用新型提供了一种流动注射分析仪的光学系统及检测系统。所述流动注射分析仪的光学系统包括光源、准直组件及分别位于所述光源相对两侧的分析组件和校准组件,其中:所述光源,发射出原始光束,所述原始光束分别投射至所述分析组件和所述校准组件;所述准直组件,将所述光源投射至所述分析组件一侧的所述原始光束会聚成准直光束;所述分析组件,接收待测样品溶液吸收所述准直光束后得到的测量光束并获得测量结果;所述校准组件,接收所述光源另一侧的所述原始光束并获得参比结果,所述参比结果用于校正所述测量结果。与相关技术相比,本实用新型提供的所述流动注射分析仪的光学系统稳定性更佳。 | ||
| 搜索关键词: | 流动注射分析 分析组件 光学系统 原始光束 光源 校准组件 本实用新型 检测系统 准直光束 准直组件 参比 待测样品溶液 测量光束 光源投射 相对两侧 投射 校正 会聚 发射 吸收 | ||
【主权项】:
1.一种流动注射分析仪的光学系统,其特征在于:包括光源、准直组件及分别位于所述光源相对两侧的分析组件和校准组件,其中:所述光源,发射出原始光束,两侧的所述原始光束分别投射至所述分析组件和所述校准组件;所述准直组件,将所述光源投射至所述分析组件一侧的所述原始光束会聚成准直光束;所述分析组件,接收待测样品溶液吸收所述准直光束后得到的测量光束并获得测量结果;所述校准组件,接收所述光源另一侧的所述原始光束并获得参比结果,所述参比结果用于校正所述测量结果。
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