[发明专利]一种基于水力屏障的地下水原位修复方法有效
| 申请号： | 201811651310.4 | 申请日： | 2018-12-31 |
| 公开（公告）号： | CN109848193B | 公开（公告）日： | 2021-01-12 |
| 发明（设计）人： | 李韬;王蓉;陈展;宋晓光;梁颖;张刚 | 申请（专利权）人： | 上海勘察设计研究院（集团）有限公司 |
| 主分类号： | B09C1/00 | 分类号： | B09C1/00 |
| 代理公司： | 上海申蒙商标专利代理有限公司 31214 | 代理人： | 黄明凯 |
| 地址： | 200092*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种基于水力屏障的地下水原位修复方法，包括以下步骤：在待修复区域边界设置若干水力屏障井并持续注入清洁水形成水力屏障；在所述待修复区域内间隔设置若干修复井，所述修复井具有抽提和注入两种工况；根据所述待修复区域的形状使具有相同工况的所述修复井呈间隔设置的若干排或者若干环，通过处于注入工况下的所述修复井往所述待修复区域内注入清洁水，并通过处于抽提工况下的所述修复井抽提所述待修复区域内地下水中的污染物。本发明的优点是：通过在待修复区域边缘持续有压注入清洁水形成水力屏障，保证了修复范围外地下水水位的稳定，降低了对周边环境的影响，并临时阻隔了待修复区域污染物向外迁移，高效地实现地下水原位修复。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 基于 水力 屏障 地下水 原位 修复 方法 | ||
【主权项】：
1.一种基于水力屏障的地下水原位修复方法，其特征在于所述修复方法包括以下步骤：在待修复区域边界间隔设置若干水力屏障井并持续注入清洁水形成水力屏障；在所述待修复区域内间隔设置若干修复井，所述修复井具有抽提和注入两种工况；根据所述待修复区域的形状使具有相同工况的所述修复井呈间隔设置的若干排或者若干环，通过处于注入工况下的所述修复井往所述待修复区域内注入清洁水，并通过处于抽提工况下的所述修复井抽提所述待修复区域内地下水中的污染物。
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