[发明专利]形成微图案的方法及基板处理设备在审
| 申请号： | 201811612414.4 | 申请日： | 2018-12-27 |
| 公开（公告）号： | CN109976097A | 公开（公告）日： | 2019-07-05 |
| 发明（设计）人： | 张相信;白宗玟;徐训硕;李义福;姜成进;V.阮;郑德泳;安商熏;吴赫祥;刘禹炅 | 申请（专利权）人： | 三星电子株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/09 | 分类号： | G03F7/09;G03F7/004 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 屈玉华 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 这里提供了一种形成微图案的方法，其包括：在基板上形成蚀刻目标膜；在蚀刻目标膜上形成光敏辅助层，光敏辅助层用亲水基团封端；在光敏辅助层上形成粘合层，粘合层与亲水基团形成共价键；在粘合层上形成疏水的光致抗蚀剂膜；以及图案化光致抗蚀剂膜。 | ||
| 搜索关键词： | 辅助层 粘合层 光敏 亲水基团 蚀刻目标 微图案 图案化光致抗蚀剂 光致抗蚀剂膜 基板处理设备 共价键 封端 基板 疏水 | ||
【主权项】：
1.一种形成微图案的方法，所述方法包括：在基板上形成蚀刻目标膜；在所述蚀刻目标膜上形成光敏辅助层，所述光敏辅助层用亲水基团封端；在所述光敏辅助层上形成粘合层，所述粘合层与所述亲水基团形成共价键；在所述粘合层上形成疏水的光致抗蚀剂膜；以及图案化所述光致抗蚀剂膜。
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