[发明专利]一种适用于光谱椭偏仪的薄膜厚度初值测量方法有效

专利信息
申请号: 201811602778.4 申请日: 2018-12-26
公开(公告)号: CN109470154B 公开(公告)日: 2020-11-06
发明(设计)人: 郭春付;夏小荣;李伟奇;张传维;李竹 申请(专利权)人: 武汉颐光科技有限公司
主分类号: G01B11/06 分类号: G01B11/06
代理公司: 武汉东喻专利代理事务所(普通合伙) 42224 代理人: 李佑宏
地址: 430223 湖北省武汉*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明公开了一种适用于光谱椭偏仪的薄膜厚度初值测量方法,包括设置检测参数,利用椭偏仪测量获得样件薄膜的斯托克斯参量;将S光谱从斯托克斯参量中分解出来,并对其进行降噪处理;筛选出S光谱中的零值点并获取对应的波长,根据S光谱的零值点及其对应波长计算样件薄膜厚度初值。本发明技术方案针对现有技术中薄膜初值测量不准确的情况,通过对椭偏测量的斯托克斯参量进行检测以获得光谱零点,利用该零点实现薄膜厚度初值的准确估算。
搜索关键词: 一种 适用于 光谱 椭偏仪 薄膜 厚度 初值 测量方法
【主权项】:
1.一种适用于光谱椭偏仪的薄膜厚度初值测量方法,其特征在于,包括,S1设置检测参数,利用椭偏仪测量获得样件薄膜的斯托克斯参量;S2将S光谱从斯托克斯参量中分解出来,并对其进行降噪处理;S3筛选出S光谱中的零值点并获取对应的波长,根据S光谱的零值点及其对应波长计算样件薄膜厚度初值。
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