[发明专利]真空镀膜装置

摘要

本发明涉及一种真空镀膜装置，包括：第一真空腔室排、第二真空腔室排、第一转移机构、第二转移机构、第一驱动机构、第二驱动机构及基片架，第一真空腔室排、第二转移机构及第二真空腔室排顺次排布以形成循环，基片架的相对两侧均用于装载基片，第一驱动机构用于驱动基片架沿第一方向穿过第一真空腔室排，以使装载于基片架的第一侧的基片完成真空脱气镀膜；第二转移机构用于将基片架由第一真空腔室排转移至第二真空腔室排，以使基片架经由第二驱动机构带动沿第二方向穿过第二真空腔室排，从而以使装载于基片架的第二侧的基片完成真空脱气镀膜；第一转移机构用于将相对两侧重新装载有基片的基片架由第二真空腔室排转移至第一真空腔室排。

主权项

1.一种真空镀膜装置，其特征在于，包括：第一真空腔室排、第二真空腔室排、第一转移机构、第二转移机构、第一驱动机构、第二驱动机构及基片架，所述第一转移机构、所述第一真空腔室排、所述第二转移机构及所述第二真空腔室排顺次排布以形成循环，所述第一真空腔室排及所述第二真空腔室排均位于所述第一转移机构与所述第二转移机构之间，由所述第一转移机构至所述第二转移机构的方向为第一方向，由所述第二转移机构至所述第一转移机构的方向为第二方向；所述基片架的相对两侧均用于装载基片，所述第一驱动机构用于驱动所述基片架沿所述第一方向穿过所述第一真空腔室排，以使装载于所述基片架的第一侧的所述基片完成真空脱气镀膜；所述第二转移机构用于将所述基片架由所述第一真空腔室排转移至所述第二真空腔室排，以使所述基片架经由所述第二驱动机构带动沿所述第二方向穿过所述第二真空腔室排，从而以使装载于所述基片架的第二侧的所述基片完成真空脱气镀膜；所述第一转移机构用于将相对两侧重新装载有所述基片的所述基片架由所述第二真空腔室排转移至所述第一真空腔室排；所述第一真空腔室排包括沿所述第一方向顺次排布的第一缓冲真空室、第一真空镀膜室及第二缓冲真空室，所述第二真空腔室排包括沿所述第二方向顺次排布的第三缓冲真空室、第二真空镀膜室及第四缓冲真空室；所述第一缓冲真空室包括沿所述第一方向顺次排布且真空度逐渐增大的进口真空室、进口真空锁定室及进口真空过渡室，所述第四缓冲真空室包括沿所述第二方向顺次排布且真空度逐渐减小的出口真空过渡室、出口真空锁定室及出口真空室；所述进口真空室与所述出口真空室并排且对齐设置，所述进口真空锁定室与所述出口真空锁定室并排且对齐设置，所述进口真空过渡室与所述出口真空过渡室并排且对齐设置，所述第一真空镀膜室与所述第二真空镀膜室并排且对齐设置，所述第二缓冲真空室与所述第三缓冲真空室并排且对齐设置。