[发明专利]等离子体源及等离子体治疗装置有效
| 申请号： | 201811566878.6 | 申请日： | 2018-12-19 |
| 公开（公告）号： | CN110833657B | 公开（公告）日： | 2023-08-11 |
| 发明（设计）人： | 安头白;金东逸;崔银河;李相学;崔珍成 | 申请（专利权）人： | ATI株式会社;光云大学校产学协力团 |
| 主分类号： | A61N1/44 | 分类号： | A61N1/44 |
| 代理公司： | 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 | 代理人： | 孙昌浩;李盛泉 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种等离子体源及等离子体治疗装置，尤其提供一种适用于治疗创伤或者烧伤的大面积等离子体源，并提供能够在这种大面积等离子体源产生均匀的等离子体放电的手段。据此，本发明提供一种大面积等离子体源，其特征在于，包括：大面积电极板，在基板上形成有具有多个放电点的电极，并且形成有覆盖所述电极的电介质；输出板，在所述电极板的一面与电极板隔开地布置，并具有在输出板的对向的两个端部分别形成的预定高度的气障，并且形成有多个孔；以及狭缝喷头模块，在所述电极板和输出板之间形成有供应气体的喷头，并组装于没有所述气障的一侧的电极板以及输出板的端部，使得气体限制在由所述电极板和输出板之间的间隙形成的空间中。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子体 治疗 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
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