[发明专利]滤波片多区域镀膜方法及其应用在审
| 申请号： | 201811555085.4 | 申请日： | 2018-12-19 |
| 公开（公告）号： | CN109371362A | 公开（公告）日： | 2019-02-22 |
| 发明（设计）人： | 戴乾;范利康;沙昭 | 申请（专利权）人： | 武汉正源高理光学有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C23C14/32;C23C14/08;C23C14/10 |
| 代理公司： | 上海精晟知识产权代理有限公司 31253 | 代理人： | 冯子玲 |
| 地址： | 430000 湖北*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明属于玻璃材料镀膜工艺技术领域，具体涉及一种滤波片多区域镀膜方法及其应用，尤其是适用于激光器的区域滤波片的镀制。一种滤波片多区域镀膜方法，在玻璃基片表面通过光刻法光刻出其中一块待镀膜区域，在该区域镀膜，对玻璃基片表面进行清洗，重复上述过程对其他待镀膜区域进行镀膜。以解决滤波片区域成膜时产生缝隙、误差和精度低等问题。 | ||
| 搜索关键词： | 滤波片 镀膜 多区域 玻璃基片表面 镀膜区域 玻璃材料 镀膜工艺 区域镀膜 激光器 光刻法 成膜 镀制 光刻 应用 清洗 重复 | ||
【主权项】：
1.一种滤波片多区域镀膜方法，其特征在于：在玻璃基片表面通过光刻法光刻出其中一块待镀膜区域，在该区域镀膜，对玻璃基片表面进行清洗，重复上述过程对其他待镀膜区域进行镀膜。
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