[发明专利]柔性VCSEL阵列器件及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201811529496.6 申请日: 2018-12-13
公开(公告)号: CN109378709B 公开(公告)日: 2020-07-17
发明(设计)人: 李川川;韦欣;李健;汪超;廖文渊 申请(专利权)人: 中国科学院半导体研究所
主分类号: H01S5/42 分类号: H01S5/42;H01S5/30;H01S5/20;H01S5/183;H01S5/065
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 张宇园
地址: 100083 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明提供了一种柔性VCSEL阵列器件及其制备方法,属于半导体激光器领域。本发明的主要结构包括VCSEL阵列和柔性基底,所述VCSEL阵列是由柔性VCSEL单元组成,去除衬底后器件激射波长可为紫外光至红外光。其制备方法包括:制备VCSEL阵列单元外延结构;在所述VCSEL阵列单元上制备上电极,并实现电极互连;在所述上电极上粘接嫁接基底;剥离所述外延结构的衬底;制备下电极并形成欧姆接触;将所述下电极与柔性基底粘接,并去除所述嫁接基底。本发明提供的激光器具可弯曲形变、环境适应力强、制备工序简便、可实现大面阵集成、亦可实现不同阵列单独控制、通过压力形变实现偏振模式选择等特点。
搜索关键词: 柔性 vcsel 阵列 器件 及其 制备 方法
【主权项】:
1.一种柔性VCSEL阵列器件制备方法,包括:制备VCSEL阵列单元外延结构;在所述VCSEL阵列单元上制备上电极(11),并实现电极互连;在所述上电极(11)上粘接嫁接基底(10);剥离所述外延结构的衬底(8);在所述VCSEL阵列单元底部制备下电极(13)并形成欧姆接触;将所述下电极(13)与柔性基底(14)粘接,并去除所述嫁接基底(10)。
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