[发明专利]一种延长抛光布使用寿命的处理方法有效

专利信息
申请号: 201811529111.6 申请日: 2018-12-13
公开(公告)号: CN111318964B 公开(公告)日: 2021-06-22
发明(设计)人: 林霖;史训达;李彦君;刘云霞;陈克强;杨少昆;周莹莹;李奇 申请(专利权)人: 有研半导体材料有限公司
主分类号: B24B53/017 分类号: B24B53/017
代理公司: 北京北新智诚知识产权代理有限公司 11100 代理人: 刘秀青
地址: 101300 北京*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开了一种延长抛光布使用寿命的处理方法,包括以下步骤:(1)刷盘刷布:将刷盘放置在贴好抛光布的抛光机盘面上,用抛光机的压力头压住刷盘,刷盘与抛光机大盘旋转方向相同;(2)高压水冲洗:用高压水冲洗抛光布表面,用高压水把整张抛光布冲洗一遍;(3)修整环研磨:将修整环放置在抛光布上,用抛光机的压力头压住修整环,修整环与抛光机大盘旋转方向相同,修整环研磨抛光布的时间为10s~5min;然后使修整环与抛光机大盘旋转方向相反,压力范围、转速范围和超纯水流量范围都不变,继续研磨抛光布10s~5min。本发明的方法对抛光布使用寿命的延长效果非常显著,可有效延长抛光布的使用寿命,且始终不会影响硅衬底抛光片的几何形貌水平。
搜索关键词: 一种 延长 抛光 使用寿命 处理 方法
【主权项】:
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