[发明专利]掩模片及其制造方法在审
| 申请号： | 201811490845.8 | 申请日： | 2018-12-07 |
| 公开（公告）号： | CN110004405A | 公开（公告）日： | 2019-07-12 |
| 发明（设计）人： | 金仁培;文敏浩;任星淳;黄圭焕 | 申请（专利权）人： | 三星显示有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C23C16/04;H01L51/56 |
| 代理公司： | 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 | 代理人： | 田野;刘灿强 |
| 地址： | 韩国京畿*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 提供了一种掩模片及其制造方法。掩模片包括限定在掩模片中的一个或更多个开口以及镍和铁的合金，并且合金的颗粒具有单晶结构。掩模片的制造方法包括准备包括镍和铁的合金的基片、对整个基片执行热处理以及在热处理了的基片中形成一个或更多个开口。 | ||
| 搜索关键词： | 掩模片 合金 热处理 开口 制造 单晶结构 | ||
【主权项】：
1.一种掩模片，所述掩模片包括：一个或更多个开口，限定在所述掩模片中；以及镍和铁的合金，其中，所述合金的颗粒具有单晶结构。
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