[发明专利]用于显示装置的膜层结构在审
申请号: | 201811474954.0 | 申请日: | 2018-12-04 |
公开(公告)号: | CN109616016A | 公开(公告)日: | 2019-04-12 |
发明(设计)人: | 陈敏;袁朝煜 | 申请(专利权)人: | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 |
主分类号: | G09F9/30 | 分类号: | G09F9/30;H01L27/32 |
代理公司: | 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 | 代理人: | 黄威 |
地址: | 430079 湖北省武汉市东湖新技术*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | 本发明提供一种用于显示装置的膜层结构,该膜层结构包括保护区,形成显示装置所需要的膜层结构;边角料区,形成所述膜层时,保护所述保护区;切割区,位于所述保护区和所述边角料区之间,用于切割形成所述保护区;其中,所述切割区包括目标区,所述目标区的第一厚度小于所述保护区的第二厚度;在膜层结构保护区厚度一定时,通过将膜层结构中切割区的厚度降低,使得在激光切割过程中,切割区汽化的材料减少,从而降低了激光异性切割后产生的灰烬和刺鼻的气味,提高了切割品质和产品良率。 | ||
搜索关键词: | 膜层结构 保护区 切割区 显示装置 切割 边角料 目标区 汽化 激光切割过程 材料减少 产品良率 厚度降低 灰烬 膜层 异性 激光 | ||
【主权项】:
1.一种用于显示装置的膜层结构,其特征在于,包括:保护区,用于形成显示装置所需要的膜层结构;边角料区,用于形成所述膜层时,保护所述保护区;切割区,位于所述保护区和所述边角料区之间,用于切割形成所述保护区;其中,所述切割区包括目标区,所述目标区的第一厚度小于所述保护区的第二厚度。
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