[发明专利]一种激光干涉光刻系统有效
| 申请号： | 201811433077.2 | 申请日： | 2018-11-28 |
| 公开（公告）号： | CN109521651B | 公开（公告）日： | 2021-04-09 |
| 发明（设计）人： | 顾芯铭;刘雨哲;周延民 | 申请（专利权）人： | 吉林大学 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G02B27/09;G02B27/48 |
| 代理公司： | 北京市诚辉律师事务所 11430 | 代理人： | 范盈 |
| 地址： | 130021 吉林省长春市*** | 国省代码： | 吉林;22 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本申请属于微纳结构技术领域，特别是涉及一种激光干涉光刻系统。现有的激光干涉光刻系统分光后光强不相等，分光元件太多，调整困难，系统可靠性低。本申请提供了一种激光干涉光刻系统，包括依次排列的双束激光产生组件、若干光束整形组件和若干干涉组件；所述双束激光产生组件包括若干光束产生单元，所述光束产生单元之间设置有偏振镜和Q开关；所述光束整形组件包括依次排列的扩束准直单元和光束整形单元；所述干涉组件包括分光单元和偏振态调制单元。分光后光强相等，分光元件简洁，容易调整，系统可靠性高。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 激光 干涉 光刻 系统 | ||
【主权项】：
1.一种激光干涉光刻系统，其特征在于：包括依次排列的双束激光产生组件(1)、若干光束整形组件(2)和若干干涉组件(3)；所述双束激光产生组件(1)包括若干光束产生单元(4)，所述光束产生单元(4)之间设置有偏振镜(5)和Q开关(6)；所述光束整形组件(2)包括依次排列的扩束准直单元(7)和光束整形单元(8)；所述干涉组件(3)包括分光单元(9)和偏振态调制单元(10)。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于吉林大学，未经吉林大学许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201811433077.2/，转载请声明来源钻瓜专利网。
