[发明专利]一种表面陶瓷化的高熵合金材料及其制备方法在审
| 申请号： | 201811407745.4 | 申请日： | 2018-11-23 |
| 公开（公告）号： | CN109252199A | 公开（公告）日： | 2019-01-22 |
| 发明（设计）人： | 杨巍;程赵辉;徐大鹏;姚小飞;吕煜坤;陈建 | 申请（专利权）人： | 西安工业大学 |
| 主分类号： | C25D11/02 | 分类号： | C25D11/02;C22C1/02;C22C30/00 |
| 代理公司： | 陕西增瑞律师事务所 61219 | 代理人： | 张瑞琪 |
| 地址： | 710032 陕*** | 国省代码： | 陕西;61 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种表面陶瓷化的高熵合金材料及其制备方法，以五种或五种以上的单质元素为配料，去除金属表面的氧化膜；采用真空电弧熔炼法制备得到高熵合金铸锭，将高熵合金铸锭依次经过线切割、除油除酯、打磨和抛光后得到高熵合金基体；依据合金微弧氧化电解液的选配原则和高熵合金的元素组成配制出相应的硅酸钠微弧氧化电解液；利用硅酸钠微弧氧化电解液采用微弧氧化法在高熵合金基体表面原位形成陶瓷层；本发明通过对各种单质金属的选择，优选出能够进行微弧氧化处理的高熵合金材料，利用微弧氧化处理高熵合金材料，实现其表面陶瓷化。 | ||
| 搜索关键词： | 高熵合金 微弧氧化电解液 表面陶瓷化 微弧氧化处理 硅酸钠 铸锭 制备 真空电弧熔炼 微弧氧化法 单质金属 单质元素 基体表面 金属表面 元素组成 原位形成 陶瓷层 线切割 氧化膜 抛光 除油 去除 选配 打磨 配制 合金 | ||
【主权项】：
1.一种表面陶瓷化的高熵合金材料的制备方法，其特征在于，由以下步骤组成：以五种或五种以上的单质元素为配料，去除上述单质元素金属表面的氧化膜，采用真空电弧熔炼法制备得到高熵合金铸锭；将高熵合金铸锭依次经过线切割、除油除酯、打磨和抛光后得到高熵合金基体；利用硅酸钠电解液，采用微弧氧化法在高熵合金基体表面原位形成陶瓷层，最终得到表面陶瓷化的高熵合金材料；制得的所述陶瓷层的厚度为15‑60μm。
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