[发明专利]用于准直DMD光刻系统的辅助装调结构及其构建方法

摘要

本发明用于准直DMD光刻系统的辅助装调结构及其构建方法，属于光学实验辅助结构设备领域，特别涉及到一种用于DMD光刻投影系统的辅助装调结构及其构建方法，包括DMD空间调制器、405nm连续激光光源、管透镜I、半透半反镜、管透镜II、CCD相机、45°反射镜、投影物镜、手动大行程三维位移台、压电平台、转接架、可调节样品台；本发明提出了一种精度高便于组装调试的准直DMD光刻系统的辅助装调结构，提供一种使DMD芯片所在平面与光学系统光轴严格垂直，同时使光学系统的光轴与待加工基片平面严格垂直，以获得最佳的光刻曝光精度和质量的DMD光刻投影系统的辅助装调结构和构建方法，适宜在各个实验室内推广实施。

主权项

1.用于准直DMD光刻系统的辅助装调结构，其特征是：包括DMD空间调制器(1)、405nm连续激光光源(2)、管透镜I(3)、半透半反镜(4)、管透镜II(5)、CCD相机(6)、45°反射镜(7)、投影物镜(8)、手动大行程三维位移台(9)、压电平台(10)、转接架(11)及可调节样品台(12)；所述DMD空间调制器(1)通过DMD芯片装配架设置在光学平台上；所述405nm连续激光光源(2)通过机械固定架固定在光学平台上，且405nm连续激光光源(2)通过光纤连接匀光装置，匀光装置的输出端所在直线与DMD空间调制器(1)上.的芯片的空间角为24°；所述管透镜I(3)与半透半反镜(4)设置在光学平台上，且管透镜I(3)、半透半反镜(4)及DMD空间调制器(1)在同一条直线上，其中管透镜I(3)与DMD空间调制器(1)的距离为200mm；所述管透镜II(5)及CCD相机(6)均设置在光学平台上，且管透镜II(5)及CCD相机(6)顺次设置在半透半反镜(4)反射的光所在的直线上；所述45°反射镜(7)设置在光学平台上，且45°反射镜(7)位于管透镜I(3)与半透半反镜(4)所在的同一条直线上；所述投影物镜(8)通过支架设置在45°反射镜(7)竖直上方，且投影物镜(8)的镜头垂直于45°反射镜(7)的反射光路；所述手动大行程三维位移台(9)设置在光学平台上，且手动大行程三维位移台(9)上设置有压电平台(10)及转接架(11)；所述转接架(11)上设置有可调节样品台(12)，且可调节样品台(12)位于45°反射镜(7)的反射光路上；所述可调节样品台(12)与投影物镜(8)之间的距离为31.5mm。