[发明专利]一种超分辨光刻的光生成器件在审
| 申请号： | 201811278502.5 | 申请日： | 2018-10-30 |
| 公开（公告）号： | CN109116687A | 公开（公告）日： | 2019-01-01 |
| 发明（设计）人： | 梁高峰;陈刚;温中泉 | 申请（专利权）人： | 重庆大学 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 重庆大学专利中心 50201 | 代理人： | 唐开平 |
| 地址： | 400044 重庆*** | 国省代码： | 重庆;50 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种超分辨光刻的光生成器件，它由上至下依次布设透明基底层（1）、纳米狭缝或孔洞阵列结构的光栅掩模层（2）、平坦化膜层（3）和光子晶体多层膜（4）。本发明的技术效果是：将高空间频率的倏逝波传输到感光层，形成具有高深宽比、高光场强度特征的深亚波长光刻图形，突破了衍射极限约束，光传输效率高，图形均匀性好。 | ||
| 搜索关键词： | 光生成器件 超分辨 光刻 高空间频率 光传输效率 透明基底层 亚波长光刻 高深宽比 光栅掩模 光子晶体 技术效果 均匀性好 孔洞阵列 纳米狭缝 平坦化膜 强度特征 衍射极限 多层膜 感光层 倏逝波 布设 高光 传输 | ||
【主权项】：
1.一种超分辨光刻的光生成器件，其特征是：由上至下依次布设透明基底层（1）、纳米狭缝或者孔洞阵列结构的光栅掩模层（2）、平坦化膜层（3）和光子晶体多层膜（4）。
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