[发明专利]用于确定结构中的兴趣区域的参数的方法和系统有效
| 申请号： | 201811221913.0 | 申请日： | 2014-02-20 |
| 公开（公告）号： | CN109341519B | 公开（公告）日： | 2020-12-08 |
| 发明（设计）人： | 吉拉德·巴拉克;德罗尔·沙菲尔;亚尼尔·海尼克;沙哈尔·戈夫 | 申请（专利权）人： | 诺威量测设备股份有限公司 |
| 主分类号： | G01B9/02 | 分类号： | G01B9/02;G01B11/06 |
| 代理公司： | 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 | 代理人： | 梁丽超;李子光 |
| 地址： | 以色列*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本申请涉及用于确定结构中的兴趣区域的参数的方法和系统。该方法包括：在结构上进行至少两个光学测量，每一个光学测量包括利用尺寸大于兴趣区域的照明点照射兴趣区域，检测从照明点反射的反射光场，并且生成与所检测的反射光场对应的测量数据，测量数据表示来自所照射的兴趣区域的和来自所照射的在兴趣区域的周围的不同区域的反射光场的混合贡献，并且其中，在至少一个不同的测量条件下进行至少两个光学测量，使得至少两个测量数据表示不同的来自所照射的兴趣区域的和来自所照射的不同区域的反射光场的混合贡献；以及处理至少两个测量数据，并且提取表示来自所照射的兴趣区域的反射光场的数据，从而能够确定兴趣区域的参数。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 确定 结构 中的 兴趣 区域 参数 方法 系统 | ||
【主权项】：
1.一种在对图案化结构的光学测量中用于确定结构中的兴趣区域的参数的方法，所述方法包括：在所述结构上进行至少两个光学测量，其中，所述至少两个光学测量中的每一个包括利用尺寸大于所述兴趣区域的照明点照射所述兴趣区域，检测从所述照明点反射的反射光场，并且生成与所检测的反射光场对应的测量数据，所述测量数据表示来自所照射的兴趣区域的反射光场和来自所照射的在所述兴趣区域的周围的不同区域的反射光场的混合贡献，并且其中，在至少一个不同的测量条件下进行所述至少两个光学测量，使得至少两个测量数据表示不同的来自所照射的兴趣区域的反射光场和来自所照射的不同区域的反射光场的混合贡献；以及处理所述至少两个测量数据，并且提取表示来自所照射的兴趣区域的反射光场的数据，从而能够确定所述兴趣区域的参数。
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