[发明专利]一种调焦调平装置、光刻机及调焦调平的方法有效
| 申请号： | 201811204080.7 | 申请日： | 2018-10-16 |
| 公开（公告）号： | CN111061128B | 公开（公告）日： | 2021-09-10 |
| 发明（设计）人： | 季桂林 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备（集团）股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F9/00 |
| 代理公司： | 上海思捷知识产权代理有限公司 31295 | 代理人： | 王宏婧 |
| 地址： | 201203 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种调焦调平装置、光刻机及调焦调平的方法，所述调焦调平装置包括主控制单元和驱动单元，所述主控制单元用于根据衬底的表面的垂向位置以及测量光斑的坐标位置结果得到调节参数，并根据所述调节参数控制所述驱动单元对所述调焦调平装置进行自动调节，以使所述衬底的表面的垂向位置的变化量等于0，所述调节参数包括入射角参数、整场倍率参数、整场旋转参数及偏心参数。从而实现了所述调焦调平装置的投影标记与探测标记的对准，大大降低了调整时间，从而提高了工作效率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 调焦 平装 光刻 方法 | ||
【主权项】：
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