[发明专利]基于非均匀计算的光强分布获取方法及装置有效
| 申请号： | 201811157268.0 | 申请日： | 2018-09-30 |
| 公开（公告）号： | CN109212913B | 公开（公告）日： | 2020-09-01 |
| 发明（设计）人： | 阎江;梁文青 | 申请（专利权）人： | 墨研计算科学（南京）有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G06F17/15;G06F17/16;G06F17/14 |
| 代理公司： | 北京弘权知识产权代理事务所(普通合伙) 11363 | 代理人： | 逯长明;许伟群 |
| 地址： | 210031 江苏省南京市江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本申请公开了一种基于非均匀计算的光强分布获取方法及装置，该方法包括：对频域上的光源函数和光瞳函数进行均匀采样，得到基于相交面积的光源采样矩阵和光瞳采样矩阵；对光源采样矩阵和光瞳采样矩阵进行非均匀傅里叶逆变换，得到交叉传递矩阵；确定交叉传递矩阵的频域核函数；建立频域上的掩模函数的采样矩阵和频域核函数的采样矩阵；根据频域上的掩模函数的采样矩阵和频域核函数的采样矩阵，通过非均匀傅里叶逆变换，获取用户指定位置上的光强分布。本申请中，由于采用基于相交面积的采样方法，提高了计算精度，同时，采用非均匀傅里叶逆变换，在相同的采样密度下，能够减小对光强分布的计算量，从而缩短计算时长，提高对光刻胶进行光刻的效率。 | ||
| 搜索关键词： | 基于 均匀 计算 分布 获取 方法 装置 | ||
【主权项】：
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