[发明专利]一种干刻下部电极的再生工艺预处理方法有效

专利信息
申请号: 201811148803.6 申请日: 2018-09-29
公开(公告)号: CN109112458B 公开(公告)日: 2020-11-20
发明(设计)人: 强军 申请(专利权)人: 芜湖通潮精密机械股份有限公司
主分类号: C23C4/02 分类号: C23C4/02;C23C4/134
代理公司: 芜湖安汇知识产权代理有限公司 34107 代理人: 朱圣荣
地址: 241000 安徽省芜*** 国省代码: 安徽;34
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摘要: 发明揭示了一种干刻下部电极的再生工艺预处理方法,其特征在于:步骤1、将下部电极放入烘箱中烘干;步骤2、清洁下部电极上的陶瓷管;步骤3、将环氧树脂真空胶均匀的涂在下部电极上的陶瓷管内壁和上端面;步骤4、将下部电极放入烘箱中烘干;步骤5、打磨凝固的环氧树脂真空胶;步骤6、对打磨后的环氧树脂真空胶进行喷砂处理;步骤7、对下部电极进行等离子喷涂。本发明的优点在于方便操作简单,能够极大的提高等离子喷涂的效果,保证整个生产流程顺畅进行。
搜索关键词: 一种 刻下 电极 再生 工艺 预处理 方法
【主权项】:
1.一种干刻下部电极的再生工艺预处理方法,其特征在于:步骤1、将下部电极放入烘箱中烘干;步骤2、清洁下部电极上的陶瓷管;步骤3、将环氧树脂真空胶均匀的涂在下部电极上的陶瓷管与铝基板接触的外壁和上端面;步骤4、将下部电极放入烘箱中烘干;步骤5、打磨凝固的环氧树脂真空胶;步骤6、对打磨后的环氧树脂真空胶进行喷砂处理;步骤7、对下部电极进行等离子喷涂。
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